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第二百九十八章 确保有一战之力（第1页）

沧海扬帆第一卷风起云涌第二百九十八章确保有一战之力“条件你尽管提！”

听到高凡提条件，徐云顿时有了信心，他拍着胸脯说道：

“小食堂的小炒，我请你三顿，怎么样？”

枫林研究所的单身职工很多，有些是没结婚的年轻人，有些则是两地分居的单身，所以平常吃食堂的人很多。

研究所的食堂分为大食堂和小食堂，小食堂承担接待访客的职能，同时还开了一个小炒窗口，可以提供一些高档菜品，供职工们偶尔打个牙祭。

80年代初，到外面饭馆请客吃饭是很罕见的，成了家的人请客一般都是在自己家里，而单身职工要请客，就只能到小食堂买两个小炒了。

徐云是个大学生，到枫林研究所来帮忙，只能拿很少的一点学生补贴，和研究所里那些拿正式工资的职工相比，算是穷人。他声称要在小食堂请高凡吃三顿小炒，算是很有诚意了。

“小炒就算了吧。”高凡摇摇头，随后又笑着说，“徐师兄如果嘴里淡了，改天我请你吃小炒吧。我现在算是辍学在家创业，多少还有点收入，起码比师兄你富裕一些。”

“这个我倒是听说过……”徐云讷讷道。

“对了，徐师兄，我对你们08实验室研究的东西，有点兴趣，你能跟我介绍一下吗？”高凡微笑着说道。

“你是说光致抗蚀剂？”徐云有些纳闷。

咦，咱们不是在谈泡妞的事情吗，你怎么转进到技术问题上去了？

没错，能够进研究所的人，都是技术宅，但技术宅也有春心……，呃，是也需要春天好不好？

你知道我专门跑来跟你聊黄师妹的事情，是鼓起了多大的勇气，你这样岔开话题是很不人道的，知不知道？

可是，心里这样想，徐云还真不好意思直说。以时下的风气，很多大学对于学生谈恋爱都是禁止的，因为这种事情被开除学籍的都不是新鲜事。

徐云给黄春燕写信，也只是谈学习谈生活谈理想，丝毫不敢提及敏感内容。现在让他掐着高凡的脖子让对方言归正传，他做不到啊。

　　“我们目前搞的东西，没啥特别的，也就是填补国内空白而已。关于技术进展情况，前几次开例会的时候，我们室主任都介绍过了，你不也参加会议了吗？”徐云有些无所谓地答道。

枫林研究所七区都是搞化工技术的，各个实验室之间的协作不少。每周的例会是全区的技术人员都要参加的，在例会上会互相通报技术进展以及遇到的困难，所以徐云觉得，高凡对于自己实验室正在做的东西，应当是有所了解的。

徐云所在的08实验室目前正在研究的是光致抗蚀剂，也就是俗称的光刻胶。高凡从到研究所的第一天就从云中明那里知道了这件事，并且暗暗地存下了一个念头。

中国的集成电路研究起步很早，差不多是美国发明出集成电路技术的同时，中国就盯上了这个方向，并且开始积极追赶。

从60年代至70年代末，全球集成电路技术经历了小规模、中规模、大规模、超大规模等多个技术阶段，中国亦步亦趋，每个阶段都没有错过。

然而，集成电路并不是一项孤立的技术，集成电路的制造严重依赖于整个工业体系的水平，尤其是材料技术和精密加工技术的水平。

在中小规模集成电路阶段，工业水平的影响还不太明显。到了大规模、超大规模集成电路阶段，没有强大的工业基础作为支撑，集成电路的发展就举步维艰了。

在后世，即便是美国这样的工业强国，也无力独立建成一套完整的集成电路工业体系，而是必须依赖整个西方的力量，例如荷兰的光刻机、德国光学镜片以及日本的光刻胶。

在美国扬言要全面封杀中国的半导体产业之时，曾有一些精神太监们洋洋自得地声称：光刻机的制造需要20多个国家的数百家工厂，中国如果要独立研发出光刻机，难度不亚于重建一套人类文明。

不过，到了那个时候，中国一个国家的体量，无论是工业人口数，还是工业增加值，已经达到了太监们口中那20多个国家的总和，也就是说，中国已经以一己之力，建成了一套人类文明。

　　当然，这就是后话了。

上世纪60至70年代，中国还是一个工业基础薄弱的国家，而且还遭受着东西方两大阵营的联合封锁。别说集成电路这种高科技产业，就连钢铁、化工等基础产业，与国外相比都有两代以上的差距。

在当时，中国虽然已经掌握了大规模集成电路的制造技术，甚至还借助于引进的国外二手设备生产出了超大规模集成电路，但产品质量差、成本高，完全没有市场竞争力。

文献记载，80年代初，国产的某种型号集成电路芯片价格为每片8元人民币，而在美国的同型号芯片价格仅相当于0.24元人民币。

80年代初的中国，百业待举，而国家却非常穷。相比钢铁、化工、电力、交通运输等产业，半导体这种只有富裕国家才能玩得起的产业是排不上议事日程的。

在这一时期，国家的半导体产业发展策略就是引进生产设备，实现部分集成电路的国产化，其中尤其以电视机芯片的国产化最为突出。

不过，对“卡脖子”的恐惧是深深刻在中国人基因之中的，在大批引进设备的同时，中国自己并没有完全放弃对半导体设备和相关材料的研究。

以后世网上炒得沸沸扬扬的光刻机为例：

1985年，机电部45所对标美国的4800dsw研制出了国内第一台分步投影式光刻机。

1990年，中科院光电所研制出ioe1010g直接分步重复投影光刻机，主要技术指标接近美国gca8000型的水平，而gca8000是美国在80年代中期开发出来的。

此后的八五、九五、十五期间，也都有相应的研究成果问世。中国在光刻机研究方面，虽然达不到国际一流水平，但也绝对没有被国外远远地甩开。

光刻机只是全部半导体设备中的一个例子，半导体领域的其他技术情况也是如此。可以这样说，中国时刻都准备着迎接最严峻的挑战，任何时候都要确保自己有一战之力。