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第839章 最后的战役（二）（第1页）

沪市，张江技术园区。

中微半导体总部的四周，布置了密密麻麻的电网和监控器，安保力量更是配备齐全。

一座不起眼的工厂里，沙领导、郑韩等一众领导，在陆飞的带领下，来到车间外。

隔着玻璃窗，就能看到一个巨型公交车大小的光刻机，身穿防尘服的工作人员正在操控这样的庞然大物，一个工作台完成扫描曝光的同时，另一个工作台也进行对准、调焦、下片等行动。

“因为芯片制造的过程中，并不是一次曝光就可以完成，而是需要经历多次曝光。”

“在曝光完一个区域之后，放置硅晶圆的曝光台就必须快速进行移动，接着曝光下一个需要曝光的区域，想要在这么多次快速移动中实现纳米级别的对准，双工作台就必须做到精度高而且操作时间短，这项技术本来只有ASML有，但现在已经被我们突破了。”

陆飞滔滔不绝，如数家珍。

领导们一言不发，目不转睛地盯着运行中的光刻机，虽然不是第一次见到光刻机，但一想到这是第一台国产的DUV浸润式光刻机，都压不住激动的心情，尽可能地往前靠，想凑得更一些，看得更清楚一些。

“了不起啊，小陆，你们了不起啊。”

沙领导满意道：“我记得是7年前还是8年前，也是在这里，你让我看的是65nm干式光刻机，还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机，我本来以为要花10年甚至更长的时间，没想到你给了我们一个大大的惊喜啊！这么快让你们搞出来了！”

“哪里，哪里，领导。”

陆飞露出谦虚而内敛的笑容。

“说说吧，到底是怎么搞出来的？”

沙领导眼里满是赞赏之色。

“其实这并不是逻辑和中微两家的功劳，我们只负责整体的统筹调度和集成研发。”

陆飞笑道：“DUV浸润式光刻机能成功，完完全全归功于参与到整个项目的全体员工、科研人员们，是他们的血汗和信念，才有了今天的光刻机，当然也离不开领导们的支持，地方上的政策，还有相关公司、院校、国企单位的合作。”

顿了顿，“可以说，这台DUV浸润式光刻机凝结了华夏半导体从业人员的智慧和野心，也代表着目前国内光刻机的最高水平，距离国际一线的EUV光刻机，只有一代的代差了。”

“生产7nm的良品率是多少？”

郑韩脸上挂着得意的笑容。

毕竟，如此国之重器出自张江技术园区，沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”。

“不同的芯片不同的良率，但基本能稳定在70%，慢慢调试改进，可以达到80%。”

陆飞比比画画道：“完全可以比肩AMSL，只用4个光罩、4次曝光，就可以达到7nm制程工艺。”

沙领导问道：“现在逻辑和华为的手机用的都是7nm制程工艺的芯片对吗？”

陆飞点了下头，“没错，7nm是目前市面上最先进的制程工艺，不过根据摩尔定律，再过个一两年，就可能突破到5nm。”

“5nm是不是就需要EUV光刻机了？”

郑韩好奇道。

“有EUV光刻机固然是好，只要一次曝光，一个光罩就能实现7nm、5nm，但没有EUV光刻机也无妨，有这台DUV浸润式光刻机也可以做到。”

陆飞露出个看似轻松的笑容。

“喔？”

顷刻间，一众领导的目光齐聚于他。

“梁博士想到的方案，如果把光刻机极限使用，经过6个光罩，9次曝光，也可以实现5nm工艺。”陆飞直截了当地回答。

一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道：“光刻机这么极限使用，会不会影响到使用寿命？”

“还有良率。”

“是啊，经过这么多道曝光，任何一道工序失败，都可能满盘皆输，成本就上来了……”

领导们来回分析，议论纷纷。

陆飞只能一一回答，“损害寿命肯定会损害，良率低也肯定会低一些，成本自然也就会高一点，但这是没有办法的办法，目前EUV光刻机国产化要实现彻底突破，还有不少技术难题摆在面前，需要时间去攻破。”

“比如呢？”

沙领导投去问询的目光。

“光刻机的技术难点主要集中在光源、反射镜、工作台，现在双工作台已经解决了，光源问题也突破了，就剩下物镜系统。”

陆飞直说道：“AMSL、尼康的光刻机用的是蔡司的技术，但蔡司愿意卖给AMSL、尼康，但绝对不会出口给我们。”

然后叹了口气，“没办法，我们只能从零开始，联合长春光机、徕卡、华为等联合研发，现在搞定了DUV浸润式的物镜系统，至于EUV的，恐怕需要很长一段时间。”

“那这期间，复芯、中芯的晶圆代工，有没有可能会被台积电、英特尔的差距拉大？”