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Chapter032 光刻机：至极变态的条件（第1页）

送走李强，布一楠开始查看最近的各项工程进度。

水厂建好后，就要开始修建超纯水系统来观测超新星爆炸，将确实的证据摆在人类面前。

之前布一楠思考很久，还是决定要修建这个，因为这系统还有另外一个作用就是为未来研究中微子核裂变，是研究能源矩阵的基础研究。

翻看资料，反渗透膜的技术已经被基地中一名材料学专家转化为了工业技术，可实现量产了。

就是仪器设备这块还需要在打磨一下。

布一楠看了设计图之后又将这份设计做了些许修改和调整。

现在国家可真的没有太多钱了，自己的任何一项研究都需要海量资金。

虽然邓玉峰从来没说，不过她又不是傻的。

外附机械骨骼这件事就能看出来，国家在努力挣钱呢。

要不要再丢出一点东西，换钱？

悬浮车？

虚拟游戏？

磁悬浮技术拿出来了，估计产能够呛。

虚拟游戏需要脑机技术，超级芯片制造出来之后才能实现。

这麻爪了。

布一楠暗嘲自己就不是个能发大财的人，手里一堆王炸居然找不出一个能挣钱的东西。

算了，还是让别人操心去吧。

她只管把技术拿出来就行。

还是先搞完自己的芯片大业吧，这玩意一出，无人能敌。

之前说完了龟腚……硅锭到硅片的过程。

接下来就是将硅片光刻制成晶圆，这里就是整个芯片制造的另一个难点。

光刻就需要光刻机。

之前提到（第十章）EUV极紫光源的存在。

根据瑞利定理，要制造纳米级芯片，光刻的光波就要更短更小。

EUV是人类现阶段能实现的最短光13.5纳米。

这个光是利用40千瓦激光驱动深紫外线光（DUV）发出的193纳米光打击液态金属锡来实现。

为了得到波长更短，强度足够的光，需用光脉冲击打液态金属锡（20微米，从高空掉落的运动体）高频重复五万次每秒。

利用金属吸收反射的原理将光波变得更短，但是这种光的波长是短了，强度又不够，怎么办？

那就打击2次!

动次打次，动次打次~

光有了，就相当雕刻于有了刀。

光刻机还需要反射镜。

（反射镜原理不用讲吧，八年级物理，不会的都是九漏鱼~自己自首去）

这种反射镜只反射13.5纳米的光，镜子直径30cm，镜面要求非常平整。

平整到什么变态程度呢？

如果把这面镜子放大到地球那么大，这上面只允长一根头发那么大的误差，大约0.05纳米左右的凸起厚度。

（像我这种天生头发丝细的人的头发大约就是50微米（1微米=1000纳米），我有个朋友她一根头发顶我五根。（?ε?｀）……羡慕死了……）

这样的反射镜每个镜子有40层这种镜面！一台光刻机上有这样的镜子最少20个！！

┴┴︵╰（‵□′）╯︵┴┴、

看到这里，有没有被逼疯？

这是目前宇宙中最光滑的人造结构了。

EUV的光通过反射、拐弯、过滤杂光，调整形状之后，每次又都会损伤30%的光强，最后到达硅片上的就只剩下2%。